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第154章 陈正博士再度来访

“游戏结束了,左为民!”马建国再次高声呼喊道:“我已经看不下去了,无论如何,我今天都要把你的罪行给揭露出来!”

“马厂长果然识大体,顾全大局,懂得顺势而为。”李东笑道,“左厂长,你还有什么好说的?”

此时左为民的表情也有些恍惚,他并未理会李东的话语,只是思绪飞扬,回忆起了十多年前,自己尚还年轻的时候。

也是在这个大礼堂中,同样的位置,当年老厂长右迁省工业厅,将厂长这个位子传给他时,他站在台上,意气风发,接受着厂里上下员工的羡慕与祝福,发誓要将晶华带上一个更新的台阶,更大的舞台。

如今时过境迁,自己立下的誓言,早已忘了个一干二净,也不知道从什么时候开始,自己竟然变成了一个痴迷于权力,顽固不化的大恶人。

谁年轻的时候还不是一个胸怀抱负,满腔热血的人?

见到台上左为民的神情,在台下角落中坐着的王向中,也是深深地叹了一口气。

他非常理解左为民此时的感受,因为他曾经也走过错路,上一辈子他坐到了水木大学计算机系教授的位置,自然也是踩着不少人的头顶上去的。

也正是因为这些破事太多,让他从一个心存高远志向,立誓要打破国外技术垄断的年轻人,变成了只会每天坐在办公室机械地备课、开会说大话的麻木冷血的中年人。

只不过他如今有了回头的机会,而左为民没有。

此时的左为民就如同一瞬之间老了十岁一般,整个人都显露出一种憔悴的疲态。只见他摇了摇头,似乎是什么都不再想辩解了,马建国的话句句属实,证据确凿,他不用开脱,也无法开脱。

会议结束后,也没等李东发文处置,他便自己一个人跑到厂里的人事处,办理了内退手续。

当天下午,左为民便自己收拾了办公室中的私人物品,一个招呼也没和其它人打,便消失在了众人的视野之中。

后来有人说他回老家种地了,也有人说他去国外找儿女去了,众说纷纭,谁也说不清他的去向。

而唯一和他保有联系的极少数几个员工,也是三缄其口,避而不谈。

马建国自然是接下了空出来的厂长位子,厂里的员工们也没有什么意见,虽然前者的名声和人品不咋地,但毕竟也是现在晶华晶圆厂里为数不多的行政老员工,那技术能力也是过硬的,整个算下来,也没有什么特别能令人挑剔的地方。

除掉了左为民这个祸患以后,李东也终于是坐实了董事长的位置,水木大学研究组也终于能够安心开展研究工作了。

……

时间一晃,便又过去了半个月的时间。

因为气压对光刻的成像影响还在研究当中,王向中和马建国做过商量之后,便是做出了决定,首先把水木研究组的光刻机改良成果应用在所有光刻机上。

但说实话,气压对光刻机成像的影响是有限的,i线光刻机所使用的光波波长为365纳米,也就是说,它的极限制程就是0.35微米,尽管王向中在上辈子有看过一篇论文,将离轴照明和移相掩模技术相结合,能将i线光刻机的分辨率超过极限,达到0.2微米制程,但这样的研究工作一点都不划算。

现在想要进一步提升光刻机的性能,便只能选择研究波长更低的准分子激光或者是DUV深紫外线光源,但这个目标对于王向中而言,还是太早了一些。

这个问题还不是光有钱就能解决的,虽然在国际上早早地便有论文提出了这些光源的激发方法,但即便是有理论的存在,国内也没有任何一家厂商能将它们化为现实。

好在王向中还有足够的时间去研究光源问题,目前国际主流芯片制程大概也就是0.2微米左右的样子,在4年后,来自宝岛的林坚博士,便会使用浸润式光刻技术,攻克193纳米分辨率的极限。

一想到这,王向中也不知道该怎么办才好了,现在自己的资金积累还不太够,想要研发国产光刻机无疑是痴人说梦,即便是有了资金,也缺乏人才和背后的工业力量制程,同样是死路一条。

虽然他理论知识丰富,但光凭他一个人,把这些来自未来的理论技术给传播出去,恐怕也就是便宜了阿美瑞肯罢了。

但研究工作又不能停滞,总不可能接下来的四年一直围着i线光刻机转吧?

正当他左右为难时,手机突然响了起来。

“叮叮叮——”

王向中叹了一口气,接起电话,对面传来了李东激动的讲话。

“王老弟,你快来厂里的会客厅,陈正博士回来了!”

陈正博士?他听到这话也是怔了怔,旋即面色也是一阵狂喜,他突然想起来,上次陈正博士承诺了要带专家来指导工作,想必这次也是把人给找到了,带着对方来了晶华做客。

陈正博士口中的专家,可不是自己这种只懂得理论知识的假专家,而是名副其实的,耕耘在一线多年的真正的工程师专家!

“好!我马上就过来,您帮我通知一下叶志华教授!”

说完他也是火急火燎地挂断了电话,连准备工作都不做了,直接冲着会客厅而去。

等他到了会客厅,便见到李东和陈正两人正在有说有笑中,而在后者身旁,则是坐着两个中年男子,倒也不怎么说话。

见到那两个人,王向中也是彻底愣住了,其中一个人是陈正承诺要带来的张京博士,对方也是晶圆生产制造方面的专家。

在原本的历史中,陈正和晶华合资,由张京博士担任晶华的总经理位置,一时之间也是做得风生水起。

也正是在张京博士手里,晶华光刻机的制程也升级到了0.5微米,同时还将晶圆尺寸提升到了8英寸,基本达到了国际主流水平。

但是另外一个人,则是完全出乎了王向中的意料,虽然他仅仅看到了对方的侧脸,但毫无疑问,那个人就是浸润式光刻技术的发明者——林坚博士!

原来陈正博士和林坚博士俩人早就相识了!但一想到对方都是宝岛人,加上俩人都是芯片领域的专家,相互认识也是情有可原的。

但是能将林坚博士请到晶华来,这得是多大的荣幸啊!

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